四月二十六日。

矽谷。

GCA總部。

“公司拿出200萬美元獎勵GCA3500B項目部。”

週五下午，孫健接到餘建國從美國打過來的報喜電話，第二天就乘飛機來到矽谷。

啪啪……

艾德里安、布羅迪和湯普森等公司高層露出了久違的笑容，揚眉吐氣。

GCA光刻機半導體研究院將研制成功的適合8英寸晶圓和350nm製程工藝的磁懸浮式雙工作臺系統，安裝在一臺GCA3500A光刻機上，製程工藝突破350nm，透過多次測試，最高達到320nm，命名為GCA3500B，製程工藝超過Nikon3500B光刻機，還提升47%的生產效率，創了新的世界紀錄！

去年底研制成功GCA3500A是一個巨大的突破，與Nikon3500B光刻機的製程工藝看起來相同，但由於安裝有適合8英寸晶圓和500nm製程工藝的磁懸浮式雙工作臺系統，GCA3500A的製程工藝和生產效率明顯超過Nikon3500光刻機，經過Sematech專家組技術認證後，II、AMD和HP半導體裝置公司預定了五臺GCA3500A光刻機。

緊接著，GCA股東大會透過並實施向10名特定投資者以每股1.5美元的價格，定向增發10億新股的方案，其中PENG購買了3億股，ATIC購買了2億股，GCA融資145500萬美元，現金流大增，召回和招聘了400多名研發人員和技術工人，啟動了3條光刻機半導體裝置生產線，如今能同時生產五臺GCA3500A光刻機。

隨著5臺GCA3500A光刻機的交付使用，使用者反應良好，II、AMD和HP等公司又預定了14臺GCA3500A光刻機，還從臺積電拿到一條價值60億美元的8英寸晶圓和以GCA3500A為主的半導體生產線訂單。

為了提高晶片生產工藝和一小時單位產能（WPH），一家晶圓廠（FAB）在一條先進的半導體生產線上一般配備20臺左右的光刻機，高低搭配，除了最下面的電晶體層需要最先進的光刻機之外，上面做銅互聯技術的無需最先進的光刻機。

一條半導體生產線中，除了佔到半導體生產線成本三分之一的光刻機外，還需要清洗裝置、高溫/氧化爐管退火裝置、勻膠機、烘乾裝置、顯影裝置、刻蝕機、去膠機、離子注入裝置、CVD/PVD/ALD/PECVD/CMP等大批高精尖裝置，數量最多的是沉積裝置（包括PVD CVD）、刻蝕裝置（ICP、CCP、DIE）和熱處理裝置（RTP），GCA如今六成需要從其他半導體設備廠定購，然後系統集成。

GCA如今專心生產光刻機、刻蝕機、矽晶圓、光刻膠、掩膜版和離子注入機，重生者也不擔心GCA被人制裁！

GCA的股價如今2.95美元，GCA3500B研制成功的訊息一旦公佈於眾，第二天的股價突破4美元都有可能。

GCA的戰略投資者賺得盆滿缽滿，對華人首富點石成金的本領佩服不已。

GCA3500A研制成功後，美國商務部和Sematech發來賀電，聖何塞布朗市長到場祝賀。

GCA管理層、技術團隊和普通員工歡欣鼓舞，幹勁十足。

GCA3500B光刻機的研制成功，GCA重回全球光刻機之巔，重新領導全球光刻機產業發展的步伐，對GCA的意義如同浴火重生、鳳凰涅槃，在同日本半導體產業競爭中取得暫時領先的優勢，對美國半導體產業的發展也具有重大意義。

全球近八成高階晶片的訂單來自II、AMD和HP等美國高科技公司，這些公司都是Sematech會員。

Sematech也是揚眉吐氣，趕超Nikoech會員的共同目標，II、AMD和HP等美國半導體裝置和生產公司將會搶先預定GCA3500B光刻機和由GCA3500B光刻機為主構成的半導體生產線。

按照雙方簽訂的專利技術轉讓協定，GCA研製的適合8英寸晶圓和350nm製程工藝的磁懸浮式雙工作臺系統技術將交給BSEC，BSEC將在國內專利局和國際專利局分別申請公司發明專利。

萬事開頭難！

BSEC光刻機工作臺研究所如今又研制成功適合5英寸晶圓和1um製程工藝、6英寸晶圓和1um製程工藝、6英寸和800nm製程工藝的磁懸浮式雙工作臺系統。

經過6個多月的等待，BSEC從國家專利局拿到了5英寸晶圓和1.5um製程工藝光刻機的公司發明專利證書。

BSEC為華越半導體公司生產的一條5英寸晶圓和1.5um製程工藝半導體生產線正在有序的生產之中。

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5英寸晶圓和1.5um製程工藝光刻機的生產技術還沒有拿到世界專利局批准的公司發明專利。

按照西方人的辦事風格，沒有18個月是拿不到的。

BSEC又在國內專利局和世界專利局分別提交了適合5英寸晶圓和1um製程工藝、6英寸晶圓和1um製程工藝、6英寸和800nm製程、8英寸和500nm製程工藝、8英寸和350nm製程工藝的磁懸浮式雙工作臺系統公司發明專利的申請。

前三項是BSEC研發成功的公司發明專利技術，後二項是GCA研發成功的公司發明專利技術。

按照雙方簽訂的專利技術轉讓協定，GCA只有適合8英寸和500nm製程工藝、8英寸和350nm製程工藝的磁懸浮式雙工作臺系統專利技術使用權，沒有專利技術轉讓權。

在ArFi準分子激光器研發成功之前，BSEC光刻機工作臺研究所繼續研發適合8英寸和500nm製程工藝、8英寸和350nm製程工藝的磁懸浮式雙工作臺系統，與GCA研發成功的雙工作臺系統進行對比，取長補短，為研發適應浸沒式光刻系統的磁懸浮式雙工作臺系統儲備技術。

根據九二年修訂的專利法，國內的發明專利保護期限變成了20年，實用新型專利權和外觀設計專利權的期限為10年，均自申請之日起計算。

只要重新申請的新發明專利比前一個發明專利更先進，發明專利的保護期限可以一直延長下去，形成事實上的技術壟斷，就像Windos系統！

“艾德里安總經理，申請明天的股票停牌，邀請Sematech專家組對GCA3500B進行技術認證，拿到認證鑑定後，申請公司發明專利，邀請II、AMD、HP、三星和臺積電等半導體製造企業參觀GCA3500B光刻機樣機。”

從餘建國的口裡知道，GCA今天上午的股票小幅下跌，特大利好訊息沒有洩密！

“好的，董事長！”

“艾德里安總經理，我們新研製GCA3500B光刻機的生產成本是多少萬美元？出廠價打算定多少？”

一臺Nikon3500B光刻機，市場售價如今是3700萬美元。

“孫總，據初步核算，成本要1800萬美元，市場售價定在4000萬美元。”

“艾德里安總經理，一旦訊息傳出去，我預測Nikon3500B光刻機肯定會大幅降價，我們的市場售價就賣3500萬美元，薄利多銷，讓利於客戶。”

如今，Nikon光刻機裝置公司正在研製8英寸晶圓和250nm製程工藝的光刻機，一旦研制成功就會擠壓GCA3500B的市場份額。

“好的，孫董事長！”