“大家以前不認識我，但應該認識鯤鵬軟體集團公司吧？大家對上個月發明光刻機磁懸浮式雙工作臺系統的BSEC也不陌生吧？”

孫健召開第一次GCA高層會議，給公司指明方向，重生者不可能長時間待在美國，為了一家控股不到六成的美國高科技公司日夜操勞也不值得。

“我還是鯤鵬軟體集團公司的老闆和BSEC的控股股東。”

歐美人敬佩有錢人，崇拜白手起家的創業者。

艾德里安、布羅迪、布來克、亞度尼斯、艾倫、湯普森、埃裡克、安格斯、米勒、戴維斯、羅德里格斯和布魯斯南一臉的驚訝，這才恍然大悟。

鯤鵬軟體名揚天下，發展前景不是日落西山的GCA能比的！

雖然BSEC剛剛成立，但率先研發成功光刻機三大核心技術之一的磁懸浮式光刻機雙工作臺系統，能明顯提升光刻機製程工藝精度和工作效率，屬於光刻機的核心技術專利之一，一鳴驚人！

虧損嚴重的GCA因面臨被出售，人心惶惶，公司沒有派人前往京城商量購買光刻機磁懸浮式雙工作臺系統的專利，也不知道幕後老闆就是眼前氣勢不凡的年輕華人。

“ATIC只是TIC的一家子公司，TIC是四年前在百慕大群島註冊的金融投資公司，三年前，MIP基金將其持有的30%ASML公司的股權以1800萬美元的價格賣給了TIC，去年飛利浦公司打算將其持有的30%ASML公司股權，以2300萬美元的價格賣給TIC，但我對控股ASML沒有興趣！我如今已經控股BSEC，要是超過6000萬美元，我也不會收購通用訊號公司持有的47%GCA股權。”

實話實說！

除了撿漏，不會溢價控股GCA。

GCA日落西山，47%的股權兩度被老闆出售，不想三度被出售的話，好好的幹！一群美國名校出身的博士在孫董事長的眼裡也沒什麼了不起的，幹活不出力的話，也是被辭退的物件。

美國的經濟衰退還沒結束，失業率高達7%。

“現如今，尼康光刻機裝置公司控制了光刻機高階市場，佔據了五成的市場份額，一枝獨秀！中低端市場份額被佳能佔據了二成，GCA、SVG、Ultratech、日立公司和ASML只能瓜分剩下的三成份額，半導體產業還沒有恢復到衰退前的水平，光刻機的市場容量有限，市場競爭激烈，實事求是的說，我並不看好GCA的未來！”

新董事長對世界光刻機行業的現狀瞭如指掌，現場高管驚訝之餘，也知道公司的現狀，憂心忡忡，都想聽聽新董事長如何指引方向？

“湯普森院長，GCA如今在光刻機領域排名前三位的技術有哪幾項？”

“孫董事長，ArF準分子激光器技術世界第一，KrF光刻膠技術排在IBM之後。”

麻省理工學院物理學專業博士、五十二歲的美國科學院院士湯普森院長自豪之色溢於言表，GCA曾經是全球光刻機的霸主。

還兼任光刻機光源研究所所長，研究方向就是光刻機光源、ArF準分子激光器。

“GCA將來定位高階光刻機市場，在光源系統方面繼續保持行業第一優勢的同時，加大投資提升ArF準分子激光器的效能；要與蔡司公司在光學系統緊密合作，簽訂長期供貨合同；公司想在製程工藝精度方面趕上Nikon，我認為突破點就在BSEC不久前發明的光刻機磁懸浮式雙工作臺系統上！”

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孫健停下來喝口水，不會將浸沒式光刻機的研發方向告訴湯普森院長，雖然手背手心都是肉，但血濃於水！

艾德里安和布羅迪眼前一亮。

“艾德里安總經理，公司能否用ArF準分子激光器專利交換BSEC的光刻機磁懸浮式雙工作臺系統專利？”

光源、光學系統和工作臺系統是光刻機的三大核心技術，BSEC擁有了其一，還是全球獨一無二的核心技術！自己先後控股了BSEC和GCA，完成了巴克豪斯投資入股的要求，投資蔡司半導體製造公司的股權只是時間問題，光學系統也有了著落，換取GCA的ArF準分子激光器的終身專利授權成為首要之選。

“孫董事長，雖然公司的ArF準分子激光器還保持行業第一，但Nikon和等光刻機公司都擁有自己的ArF準分子激光器公司發明專利，我擔心BSEC不會答應。”

如今世界前十位的光刻機公司都有自己研發的ArF準分子激光器，GCA的ArF準分子激光器不是唯一之選，艾德里安當然擔心。

“艾德里安總經理，因為涉及兩家控股公司關聯交易和利益輸送方面的法律問題，我不便出面，我授權艾德里安總經理代表GCA，同湯普森院長一起，帶著律師，一起前往BSEC，與對方的餘建國總經理和鄧國輝院長商談ArF準分子激光器同光刻機磁懸浮式雙工作臺系統專利技術授權轉讓事宜，我也授權餘建國總經理代表BSEC，你們雙方商量後決定，艾德里安總經理和餘建國總經理最後在專利技術授權轉讓協定上簽字蓋章。”

GCA屬於美國上市公司，美國的法律條文齊全，違法必究，涉及到兩家控股公司的關聯交易和利益輸送，一旦出問題，孫董事長跑不了，避免留下汙點，不會出面協調，不給下屬留下偏袒一方的把柄，避免秋後算賬，他只會告訴餘建國，他將入股蔡司公司，解決光學系統的難題，相信餘建國和鄧國輝知道公司急需什麼技術？處在優勢位置，在談判桌上，不會吃虧。

有了世界第一的ArF準分子激光器專利技術的終身授權，BSEC光源廠就能合法生產ArF準分子激光器（不能出售和轉讓專利技術），鄧國輝團隊在研究透了ArF準分子激光器的基礎上，開始研發ArFi準分子激光器，提前研製193nm浸沒式光刻機，一旦研制成功，BSEC必將脫胎換骨。

浸沒式光刻系統是前世臺積電林工程師的建議，被投入巨資研究F2準分子激光器的尼康和佳能等光刻機光源專家嗤之以鼻，但ASML冒險採納了這個建議，攻克了光刻機193nm波長的世界性光學難題，生產了全球第一臺浸沒式光刻機，一舉成名！