三月十五日至三十一日，第八屆全國RD第一次會議在京舉行。大會審議和透過了李領導所作的《政F工作報告》。

《報告》提出，經濟體制改革的目標是建立社會主義市場經濟體制，要求從一九九三年起要力爭在轉換國有企業經營機制、發展各類市場、價格改革、勞動工資制度改革、推進社會保障和城鎮住房制度改革、改善和加強宏觀經濟管理等方面，取得突破性的進展。

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“孫健，你的提案我們都看了，對國內光刻機的研發和生產現狀一針見血，振耳聵聾，非常有遠見性、緊迫性和可行性，李領導讓我交給你一項重要任務，國Z委在中官村高新區有償劃撥一千畝工業用地，將工Y部45所、中K院微電子研究中心和中K院滬海光學精密機械研究所及其配套工廠，所有從事光刻機半導體研發和生產任務的幹部職工和生產裝置全部從原單位剝離出來，將所擁有的技術專利、幹部職工和生產裝置等整體注入，國有資產評估公司評估2億元，國資佔股40%，淘寶控股公司投資3億元，佔股60%，註冊資本金5億元，成立京城半導體裝置股份有限責任公司，你擔任公司法人和董事長，魏建國同志擔任公司總經理，國資股份中，中K院佔股17%，工Y部佔股13%，中官村管委會佔股10%。”

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作為全國ZX委員，第一次參加全國ZX會議，參Z議Z是每個委員的職責，孫健撰寫了一份《研發新一代光刻機是中G跟上世界積體電路發展步伐的希望》的提案，在大會上宣讀。

從國內光刻機的研發和生產企業的現狀，與世界光刻機研發和生產公司的巨大差距，大力發展新一代光刻機的必要性和緊迫感，呼籲集中從事光刻機等半導體研發和生產的團隊，成立一家光刻機等半導體生產裝置股份制公司，採用市場化手段，共同研發和生產新一代光刻機等半導體生產裝置，打破西方國家對先進光刻機等半導體生產裝置的封鎖。

建議以研發人員、生產人員、技術專利、生產裝置和土地等投入，以股份制公司形式，在京城或滬海成立一家光刻機等半導體生產裝置股份公司，建立現代企業管理制度，打破鐵飯碗和幹部終身制，能者上，劣者下，按勞分配，多勞多得，上不封頂，獎勵管理層和技術團隊股權，與公司的興衰息息相關，以資料說話，高屋建瓴，見解獨特，可行性強，字裡行間流露出提升國內光刻機等半導體生產裝置的焦急心情，這份提案引起參會的科協和科技界等ZX委員的高度關注和熱議，提案被領導們廣泛傳閱。

ZX會議結束後，孫健被朱副領導留了下來。

四月一日上午，朱副領導在辦公室接見了孫健，電子工Y部宗部長、中K院周院長、中官村管委會沈主任和中K院微電子研究中心半導體設備廠魏建國廠長在座。

八六年，109廠與中K院半導體研究所、中K院計算技術研究所有關研製大規模積體電路部分單位合併，成立中K院微電子研究中心，原109廠變成了半導體設備廠。

“首長，我服從安排，請首長幫忙，從三家研究所及其配套工廠的幹部中，再給公司配備一名副總經理、一名光刻機研究院院長和一名副院長，我只負責公司的重大決策。”

雖然孫健明白留他下來肯定談論如何振興國產光刻機的大事？但做夢也沒有想到，國家竟然將國內三家研發和生產光刻機等半導體生產裝置的核心研究機構及其配套工廠交給他，成立京城半導體裝置股份有限責任公司（Beijior Equipment Corporation，簡稱BSEC），由淘寶控股公司投資控股，擔任法人，領導國內光刻機等半導體生產裝置的研發和生產。

任務艱巨而光榮！

國內光刻機等半導體裝置的研發和生產處於半停滯狀態，技術水平與當今世界光刻機龍頭企業尼康公司相差十年以上。

六一年，成立三年的GCA（美國地球物理公司）造出了世界第一臺接觸式光刻機。

七十年代，尼康公司和佳能公司開始進入這個領域，作為光學行業的頂級巨鱷，相機裡的一塊CMOS感光元件，技術難度都比當時的光刻機不知道高多少倍？如魚得水！

七十年代，Kasper儀器公司首先推出了接觸式對齊機臺並領先了幾年，Cobilt公司做出了自動生產線，但接觸式機臺後來被接近式機臺所淘汰。

七三年，拿到美國軍方投資的P＆E公司推出了投影式光刻系統，搭配正性光刻膠非常好用而且良率頗高，因此迅速佔領了市場。

七八年，GCA推出了世界上第一臺商用步進光刻機DSW4800，該機器使用G線汞燈和蔡司光學元件，以10:1的比例將晶片線路成像到十毫米見方區域。

八零年，尼康公司率先推出日本首臺KrF商用步進光刻機NSR-1010G，能夠以五倍的解析度的減少實現1μm製程工藝，生產比GCA更高分辨率的鏡頭吸引客戶。

IBM、II、AMD和HP等美國半導體公司，在公司利益面前果斷放棄美國利益，紛紛掉頭投入尼康公司的懷抱。

在尼康公司的打壓下，GCA的高階市場份額不斷減少，在八五年、八六年損失一億美元，不得不裁員七成；八八年，美國通用訊號公司以七千六百萬美元收購了陷入財務困境的GCA，為了與尼康競爭，Sematech（美國半導體製造技術戰略聯盟）資助GCA開發成功KrF光刻機，實現了1μm製程工藝，但尼康光刻機的製程工藝提升到800nm，GCA的高階市場份額沒有多大起色。

六六年，中K院109所與滬海光學儀器廠聯手協作成功研製中國第一臺光刻機、65型接觸式光刻機。

八一年，中K院半導體研究所研制成功JK-1半自動接近式光刻機。

八二年，109廠、冰城量具刃具廠和阿城繼電器廠共同研制成功KHA75-1型半自動接近式光刻機，在指標上已經完全對標日本的PLA500-F型。