800nm製程工藝的專利技術對於GCA來說如同雞肋，但對於BSEC如同神助，掌握後就能跨越1um製程工藝，掌握800nm製程工藝技術。

擁有了193nm的ArFi準分子激光器的製造技術和800nm製程工藝的專利技術，但BSEC還不能生產自主智慧財產權的1um製程工藝的光刻機。

為了將來不被美國政府卡脖子，未雨綢繆，BSEC要掌握生產光刻機的三大核心技術：光源系統、光學系統和工作臺系統，不斷升級換代。

叮囑鄧國輝，BSEC光刻機光源研究所研究清楚GmArF準分子激光器的工作原理和製造技術，光刻機光源公司自己生產；叮囑陳偉長，BSEC光刻機光學研究所自己研制成功6英寸晶圓和1um製程工藝的光學鏡頭和反射鏡頭，光刻機光學公司自己生產。

孫健承諾，BSEC在2年內生產具有自主智慧財產權的6英寸晶圓和1um製程工藝的光刻機，淘寶控股公司掏錢獎勵項目組200萬元；在4年內能生產一條具有自主智慧財產權的6英寸晶圓和1um製程工藝的半導體生產線，他從淘寶控股公司持有的BSEC股份中，拿出200萬股獎勵給做出重大貢獻的科技和生產人員，但在規定時間內，完不成任務，就開始裁員！

獎勵和裁員雙管齊下，管理層、技術人員和普通員工的壓力劇增。

鄧國輝拿到ArF準分子激光器專利技術，同錢富強仔細研究一番後，如醍醐灌頂，豁然開朗，申請2000萬元的研發經費，帶領光刻機光源研究所按照GCA提供的技術圖紙，消化吸收ArF準分子激光器的專利技術……

1995年2月，經過一年半的攻關，光刻機光源公司生產出一臺6英寸晶圓和1um製程工藝的光刻機。

1995年9月，BSEC生產了一條有自主智慧財產權的6英寸晶圓和1um製程工藝的半導體生產線，填補了國內技術空白，開啟了國內市場，終於拋掉三年鉅虧的不利局面，1995年度實現淨利潤11600萬元。

1996年4月20日，BSEC拿到公開發行新股的額度，6月11日，在鵬城證券交易所公開發行了15000萬股新股（其中1000萬股職工股），每股發行價6元，融資8.73億元（扣除發行費用），其中8億元用於研發8英寸晶圓和500nm製程工藝光刻機，0.73億元用於補充公司流動資金。

當時BSEC研製的6英寸晶圓和800nm製程工藝的光刻機已經臨近尾聲。

“鄧院長，研究院繼續研發8英寸晶圓和500nm工藝的光刻機。”

“好的，董事長！”

“魏總，公司爭取早日生產出一條具有自主智慧財產權的6英寸晶圓和800nm製程工藝的半導體生產線，到時，PGCA率先訂購一條。”

“好的，董事長！”

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“董事長，經過近2年的聯合攻關，研究證實，我們用去離子水等手段，保持水的潔淨度和溫度，使其不起氣泡，用去離子水作為曝光介質，雖然光源波長還是用原來的193nm，但透過去離子水的折射，能使進入光阻的波長明顯縮小，使用浸沒式技術突破193nm波長可行，我們如今遇到的最大難題是我們自己製造的光學鏡頭不能滿足突破193nm波長光刻光學器件的技術要求。”

浸沒式光刻技術聯合攻關組組長陳偉長院士給孫健彙報浸沒式光刻技術的最新進展，總經理魏建國、院長鄧國輝院士、副院長歐陽民院士、聯合攻關組副組長夏季常院士和光源研究所所長錢富強研究員也在場。

1994年，鍾德偉教授和夏季常教授憑藉研究成功全球獨一無二的光刻機懸浮式雙工作臺系統技術專案成果，晉升工程院院士。

1995年，陳偉長研究員憑藉研究成功1um製程工藝的光學系統技術專案成果，歐陽民研究院憑藉研制成功6英寸晶圓技術專案成果，同一批晉升工程院院士。

同年，錢富強副研究員在自主製造ArF準分子激光器的工作中做出重大貢獻，晉升研究員，擔任光刻機光源研究所所長。

鄧國輝院士不再兼任光刻機光源研究所所長，集中精力主持光刻機半導體研究院的整體研究工作。

浸沒式光刻技術在BSEC屬於嚴格保密的研究專案，屬於在研專案的第一號，由光刻機光學研究所、光刻機光源研究所和光刻機自動化研究所相關研究人員和高級技師組成，聯合攻關組由陳偉長院士和夏季常院士領銜，所有參與者同BSEC簽訂了保密協定。

“陳副院長，據我所知，雖然蔡氏公司專門為GCA和ASML研發成功的Starlith 900，是世界上第一個批量生產的 193nm波長光刻光學器件，也是第一個可以實現100nm以下解析度的系統，但浸沒式光學鏡頭與眾不同，蔡司公司、尼康公司和佳能公司如今都還沒有開始研製，只能我們自己研製和生產，我們也不需要太過著急，一步步來，從零部件到總裝等方面夯實基礎，聯合攻關組需要購買的機器設備和材料，可以直接向魏總申報，陳副院長看上的高階專業人才，交給人事部組織招聘和引進。”

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控股GCA，作為ASML、蔡司耶拿公司、CarlZeiss AG的第二大股東，有資格第一時間知道這些公司的最新科技成果，但今年初剛剛面世的Starlith 900也在瓦森納協定出口管制產品和技術目錄上，不能出口國內。

EUV光刻機也不是十年左右就能研制成功的，孫健如今也不慌了，打牢基礎，即使BSEC三年內研制成功全球第一臺浸沒式光刻機，他也打算雪藏，等193nm波長遇到突破65nm製程工藝的世界性難題時，再將這項突破性專利技術推出，一鳴驚人！

不要挑戰美國是世界高新技術的領導者和引領者的地位！

華為和中興前世的教訓太深刻了！

雖然ATIC參股MEMC，能買到8英寸晶圓，但孫健叮囑兼任矽片製造研究所所長的歐陽民院士，自己研究和生產8英寸晶圓，矽片新能源產業前途無量。

BSEC光刻機半導體研究院下屬的光刻機光源研究所、光刻機光學研究所、矽片製造研究所、光刻機自動化研究所、刻蝕機研究所、光刻機熱處理研究所、掩膜版研究所、離子注入機研究所和光刻機半導體信息部，除了夏季常院士領導的光刻機自動化研究所處於全球光刻機自動化行業首位外，其他都排不進全球前十名，任重道遠，需要持續投入巨資，在全球範圍內招聘頂尖人才，但在國內都處於光刻機半導體行業第一，任何一家公司的副產品推向市場，都能做到國內前三位。

“好的，董事長！”

陳偉長舒了一口氣，肩上的壓力小多了。